(资料图片仅供参考)
半导体材料，尤其是前道的耗材一直是目前一级市场投资机构比较关心和热衷的方向。所以，我也打算整理一些这方面的数据供大家参考今天我打算把之前整理的CMP耗材的供应商数据更新发布一下
CMP工序中主要用到的耗材有以下5种：
研磨浆料 Slurry研磨垫 Pad清洗液pCMP Clean修正盘Conditioner过滤器 Filter目前国内相对欠缺最大的领域还是Slurry，虽然已经有不少公司在做了，但前道高端领域依旧被日本几家供应商垄断，短期内突破很难。其上游的原材料主要有：
磨料：二氧化硅、二氧化铈、三氧化二铝（根据研磨对象材料不同而定）添加剂：pH调节剂、氧化剂、表面活性剂等Pad这块，国内鼎龙、江丰等公司已经有一定的出货量了。其上游原材料主要是：
聚氨酯、无纺布、发泡剂等修正盘目前国内一般是研磨垫供应商同时做了。国内市场上外资供应商中韩国Saesol据说市占率较大过滤器这块供应商比较集中，国外主要是Entegris和PALL，国内是科百特一家独大，还有一家我名字忘了，麻烦有知道的朋友提醒我一下，谢谢
以下是所有我知道的供应商的列表。麻烦大家参考的同时，也帮我看看还有哪些错漏。发现任何问题，请务必和我联系，谢谢支持了
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